Используется для текстурирования и очистки высокоэффективных гетеропереходных солнечных элементов.

Технологический процесс
Предварительная очистка→промывка водой DI→удаление повреждений от пилы→промывка водой DI→текстурирование→промывка водой DI→промывка водой DI→PSC1-DI→химическая полировка (O3)→промывка водой DI→обработка водойSC2→промывка водой DI→очисткаHF→промывка водой DI→сушка горячей водой→сушка теплым воздухом.

Особенности
- Подходит с функцией MES, UPS и RFID.
- Разумное распределение лифтов, которое может эффективно избежать перекрестного загрязнения химической жидкости и реакционного времени технологической ванны.
- Компактная и разумная структурная схема, кислотная зона, щелочная зона и зона высокой чистоты разделены перегородками, занимая небольшую площадь.
- Передовая двухслойная структура ванны эффективно повышает пропускную способность до 400 шт. на партию.
- Технологические ванны сочетают в себе режим "подачи и отвода" и режим "дозирования по времени", что позволяет увеличить время подъема ванны и сократить период смены ванны.
- Дозирование и подпитка принимают линейное обнаружение двойного магнитострикционного расходомера внутри ванны и дозирующего ствола, а также регулируемую структуру управления потоком клапана для обеспечения времени начальной подпитки и точности точного дозирования эффективно.
- Оптимизация и модернизация всех материалов, контактирующих с технологической жидкостью, во избежание осаждения примесей.
- С помощью новейшей технологии низкотемпературной сушки обеспечить чистоту и точность контроля температуры внутри ванны, увеличить срок службы минорных носителей солнечных элементов.