Керамические компоненты для литографии и контроля пластин
Наши сверхчистые керамические компоненты, идеально подходящие для литографии и обработки полупроводниковых пластин нового поколения, обеспечивают минимальное загрязнение и исключительно долгий срок службы.

КОМПОНЕНТЫ ДЛЯ ЛИТОГРАФИИ И КОНТРОЛЯ ПЛАСТИН

Устойчивые к химическому воздействию и термостабильные, наши высокочистые керамические компоненты идеально подходят для литографии, обработки полупроводниковых пластин (низкий уровень загрязнения) и контроля полупроводниковых пластин (высокая прочность и твердость, стабильность размеров). Области применения включают:

Подложки для фотомасок
Патроны для пластин
Компоненты платформы для пластин
Столы для вафель

РЕКОМЕНДУЕМЫЕ МАТЕРИАЛЫ ДЛЯ ЛИТОГРАФИИ И КОНТРОЛЯ ВАФЕЛЬ

Высокочистые алюминаты
UltraClean™ Рекристаллизованный карбид кремния
CeraSiC, UltraSiC™ Карбиды кремния прямого спекания

ПОДЛОЖКИ ДЛЯ ФОТОМАСОК

Подложки для фотомасок CoorsTek изготавливаются из высокочистого синтетического кварцевого стекла, обеспечивающего превосходное пропускание ультрафиолетового и видимого света, термическую стабильность, электроизоляцию, низкое двулучепреломление и стойкую химическую стабильность. Передовая, масштабируемая технология полировки делает эти подложки для фотомасок идеальными для микроскопического нанесения рисунка от пластин до больших плоскопанельных дисплеев (FPD).

ПОДЛОЖКИ ДЛЯ ВАФЕЛЬНЫХ ПЛАСТИН

Наши сверхплоские керамические вакуумные вафельные патроны, шаговые патроны, пористые патроны и электростатические патроны улучшают управление выходом продукции при обработке полупроводниковых пластин. Конфигурации с низким поверхностным контактом минимизируют риск попадания частиц с обратной стороны для чувствительных приложений. Наши вафельные патроны обеспечивают:

Ультраплоские возможности
Зеркальная полировка
Исключительно малый вес
Высокая жесткость
Низкое тепловое расширение
Диаметр Φ 300 мм и более
Чрезвычайная износостойкость