Осушитель с кипящим слоем SemiDry

Осушитель с кипящим слоем SemiDry

Производитель: Hitachi Zosen Inova AG
Артикул:2524719
Hitachi Zosen Inova AG
*Цена по запросу
Отправить заявку

Мы принимаем заявки на поставку оборудования круглосуточно и только онлайн, через форму обратной связи или по электронной почте:

info@zipmachine.ru

Связаться с менеджером для консультации вы можете по телефону: +7 (800) 302-30-80 в будние дни с 09.00 до 18.00.

Описание
Система HZI SemiDry включает в себя полусухой процесс сорбции, использующий принцип циркулирующего псевдоожиженного слоя.

Гашеная известь вводится в реактор псевдоожиженного слоя для нейтрализации агрессивных кислотных газов. Температура в реакторе является ключевым фактором процесса сорбции. Для достижения идеальной температуры реакции (обычно 145°C) в реактор одновременно распыляется вода. Помимо регулирования температуры, вода реактивирует рециркулирующие остатки, оптимизируя эффективность процесса разделения.

Низкий уровень выбросов и высокая эффективность при изменениях концентрации загрязняющих веществ в дымовом газе (высокая буферная емкость для предотвращения скачков, возникающих из-за большого количества твердых частиц в системе)
Низкая чувствительность к колебаниям температуры на входе в реактор (температура регулируется путем впрыска воды)
Высокая энергоэффективность по сравнению с системами на основе известкового шлама
Высокая эксплуатационная готовность и низкие затраты на эксплуатацию и техническое обслуживание благодаря использованию проверенного оборудования с небольшим количеством механических компонентов
С помощью автономной системы SemiDry можно достичь верхних пределов BREF.
При дооснащении скруббером постоянного тока также можно достичь низких значений BREF - благодаря комбинации с SemiDry, по-прежнему без сточных вод
Характеристики
Партия / непрерывный непрерывного действия
Технологии с кипящим слоем
Вы смотрели
Так же смотрят