Источник плазмы встроен в вакуумную камеру и генерирует плазму высокой плотности. Источник плазмы может использоваться как плазменное осаждение (ионное напыление) и позволяет улучшить свойства пленки для оптических тонких пленок, защитных пленок и функциональных пленок. А также может быть использован для плазменной обработки, такой как очистка и модификация поверхности.
Характеристики

Низковольтная и сильноточная плазма позволяет ионизировать и возбуждать молекулы газа и испаряемые частицы.
Возможно реактивное осаждение, особенно подходящее для продвижения окисления пленки.
Плазма высокой плотности может быть сгенерирована в массовом пространстве, таким образом, возможно высокоскоростное осаждение на большой площади.
Возможна установка в существующую вакуумную камеру.
Эффект

Улучшение плотности пленки, показателя преломления
Производство экологически стабильных пленок
Низкий сдвиг длины волны
Низкое оптическое поглощение (содействие окислению пленки)
Улучшение адгезии пленки
Улучшение шероховатости поверхности
Контроль напряжения пленки
Технические характеристики

Максимальная мощность плазмы ： 6 кВт (160 В, 38 А)
Рабочее давление ： от 1×10-2 до 1×10-1Па (атмосфера Ar, O2, N2)
Разрядный газ (Ar) ： от 8 до 20 мл/мин
Охлаждающая вода ： от 7 до 10 л/мин
Метод луча： выбирается из отражения-луча и облучения-луча