Плазменная установка Yocto III используется преимущественно в следующих областях: активация, очистка

Базовое оснащение

Электропитание: 230 В

Подача газа

Технологический газ через фильтр
Расход через клапан (нерегулируемый)
Подача воздуха через фильтр

Вакуумные камеры

Боросиликатное стекло (UHP), круглая камера с крышкой (прибл. ∅ 50 мм, длина 150 мм)

Электроды

Одна пара электродов за пределами вакуумной камеры

Системы управления

Генератор для плазмы
Двухступенчатый переключатель
Кнопка пуска
Сетевой выключатель

Генераторы

Частоты: 100 кГц: мощность 0 - 30 Вт

Вакуумный насос

Встроен в корпус
Безмасляный
Производительность всасывания 0,75 м3/ч

плазменных процессов
Очистка материалов

Плазменная техника предлагает решения для удаления любого вида загрязнений, обработки любого субстрата и любого способа дополнительной обработки. В процессе очистки снимаются даже молекулярные следы загрязнений.

Дополнительная информация
Активация материалов

Обязательным условием для надлежащей адгезии связывающих компонентов при окрашивании, склеивании, нанесении методом печати и приварке является хорошая смачиваемость поверхности.