Источник излучения холодного поля идеально подходит для получения изображений с высоким разрешением при небольшом размере источника и распределении энергии. Инновационная технология CFE Gun способствует созданию идеального FE-SEM с превосходной яркостью и стабильностью луча, обеспечивая получение изображений с высоким разрешением и высококачественный элементный анализ. Уникальная конструкция объективной линзы позволяет проводить EELS и дифракцию.

SU9000 - это новый РЭМ премиум-класса от HITACHI. Он оснащен уникальной электронной оптикой, в которой образец располагается в зазоре между верхней и нижней частями полюса объектива. Эта так называемая концепция "true in-lens" в сочетании с новым поколением технологии эмиссии холодного поля HITACHI гарантирует максимально возможное разрешение системы (разрешение SE 0,4 нм при 30 кВ, 1,2 нм при 1 кВ без использования технологии замедления пучка [0,8 нм с замедлением пучка]) и стабильность.

Чтобы сделать эту разрешающую способность пригодной для практического применения в вашей лаборатории, в SU9000 используется ультрастабильная ступенька для образца с боковым входом, аналогичная высококлассным системам TEM, а также оптимизированное гашение вибраций и закрытый шкаф для защиты электронной оптики от шума окружающей среды. Кроме того, концепция чистого вакуума SU9000 обеспечивает уровень вакуума в пушке и камере для образцов на порядок выше, чем у предыдущего поколения, что позволяет свести к минимуму артефакты загрязнения образцов (эффективная очистка самих образцов перед наблюдением может быть достигнута с помощью очистителя образцов ZONESEM от Hitachi).

Помимо чистого, непревзойденного разрешения, SU9000 также оснащен замечательной системой детектирования 2+2 для наблюдения поверхности, состава и пропускания образца.